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SHIWEI是维-VHT真空热处理系统，以满足块体、粉末、薄膜等样品真空（保护气氛下）做热处理或者合成生长制备，广泛适用于低维材料（0D/1D/2D），磁性材料，热电材料，能源材料，光电材料，半导体材料，金属材料，超导材料等材料器件生长制备，已经被全球众多高校、科研院所和企业使用，特别是材料实验，科学研究和先进材料研发等领域，成为众多先进材料实验研发的必备专用仪器。
为生长制备优异性能材料或者对材料器件做物理化学工艺处理，采用真空封管热处理工艺是目前广泛采用的方式，该方法既可用于材料固相生长，又可用于材料器件制备热处理工艺，具有快速高效、易于操作、安全可靠、工艺可控，生长质量高等突出特点。
（HHT真空封管系统：高真空封管机+高温管式炉+真空泵）
（真空封管热处理金属材料样品+真空封管生长晶体材料）
SHIWEI是维-VHT真空热处理系统主要适用于对材料样品在石英试管中真空环境状态下（或保护气氛下）完成封管；在试管预抽真空后，试管管壁材料经高温熔融并在外部大气压的作用下和管内石英柱体融接在一起而形成真空密封。可密封的试管材料可以是普通的硼酸盐玻璃也可以是石英玻璃，设备可通过变换不同的卡套连接各种外径的试管。试管在真空密封过程中的旋转速度可以在一定的范围内进行调节，方便配合不同管径试管和焊枪的使用。高真空封管机自带放气和充气装置。
该系统应用工艺场景包括真空热处理、CVT、CVD、PVT、熔融、区熔、预烧、烧结、镀膜等。可应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。
（实物图）
VHT真空热处理系统主要技术指标
VHT真空热处理系统高真空封管机、管式炉、机械真空泵(高真空分子泵真空计组)、专用水焊机等部
分组成。
系统真空漏率：2x10-9Pa·m3/S；
可密封石英管管径/长度：Φ15、Φ20、Φ30mm等/-mm;
可密封石英管壁厚：1-2mm
封管状态：竖直
可密封对象：包括块体、薄膜、粉末和器件等；
旋转速度：0-20r/min可调;
真空接口：KF16/KF25
充气接口:6-8mm;
电源:V/V±5%，50Hz;
专用水焊机产气量：L/H；
专用水焊机火焰最高温度：约℃；
封管机真空测量：真空表
充气压力测量：压力表
真空管式炉：管式炉：Φ50×6mm。加热原件：氧化铝纤维+掺钼铁铬铝合金加热丝电阻丝。加热区
长mm。最高温度：1℃，工作温度：≤℃。升温速率≤20℃/min(一般建议:10℃/min)。控温方式：智能PID，30段程序控温，具有过流保护、超温和断偶报警。控温精度：±1℃。炉门结构：开启式。额定功率：2.0KW。电源：V,50Hz。附件：石英管1根，不锈钢密封法兰1套，硅胶密封圈6个，氧化铝管堵2个，高温手套1副，炉钩1支，坩埚钳1把，石英舟1个，说明书1本。
16.选件（根据需要选配）：气体流量及控制单元；真空油泵/干泵/分子泵真空机组；镀膜仪；匀胶机；材料样品转移装置（与净化手套箱配合使用）；箱式炉/管式炉；电火花真空检测仪；真空管接头；液氮冷阱；高纯石英管；
LCVT真空封管系统应用场景
材料生长制备专家--是维SHIWEI（
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